EV Group(EVG)推出HERCULES NIL奈米壓印微影整合系統(Track System)，結合晶圓清洗、光阻塗布、烘烤的前處理步驟和EVG獨有的Smart NIL大面積奈米壓印微影(NIL)製程在單一平台上，HERCULES NIL系統提供一個適用於新興光子元件高量產(HVM)完整的與專屬的UV-NIL解決方案。
EV Group(EVG)推出HERCULES NIL奈米壓印微影整合系統(Track System)，結合晶圓清洗、光阻塗布、烘烤的前處理步驟和EVG獨有的Smart NIL大面積奈米壓印微影(NIL)製程在單一平台上，HERCULES NIL系統提供一個適用於新興光子元件高量產(HVM)完整的與專屬的UV-NIL解決方案。
該系統可壓印出從數十奈米到幾微米的結構，以改變或提升表面或元件本身的光學反應，例如抗反射層(Anti-Reflective Layer)、彩色和偏光濾光片、導光板、用於發光二極體(LED)製程的圖案化藍寶石基板(Patterned Sapphire Substrate)等。而其他快速竄起的新型NIL應用還包括有微機電、奈米機電、生化和奈米電子等應用。
EV Group執行技術總監Paul Lindner表示，Hercules NIL系統可實現更廣泛的應用，尤其是光子和生化技術領域的應用將受益更多，最終更可將NIL技術在擁有成本和解析度方面的優勢發揮在量產上。
HERCULES NIL系統於單一整合系統中結合EVG在NIL技術、光阻製程和高量產解決方案等眾多專精知識，產量每小時可產出四十片8吋晶圓。該系統是一個可高度靈活配置和模組化的平台，適用於各種壓印材料和不同大小結構，為客戶提供更大的彈性來因應不同製程的需求。高度整合的平台也將顆粒污染風險降到最低。
EV Group網址：www.evgroup.com