EVG Inkron DOE MEMS 光學感測 AR/VR

EVG攜手INKRON開發高折射率材料暨奈米壓印微影製程技術

2020-02-20
微機電系統(MEMS)、奈米科技與半導體市場的晶圓接合暨微影技術設備之廠商EV Group(EVG)日前宣布和致力於高低折射率塗層材料的製造商Inkron的合作夥伴關係。兩間公司將為開發和生產高品質繞射光學元件(DOE)結構提供優化的製程和相符的高折射材料。這些DOE結構包括用於擴增實境、混合實境、虛擬實境(AR/MR/VR)元件的波導管,以及在車用、消費性電子和商業應用中的先進光學感測元件,如光束分離器和光束擴散器。

Inkron執行長Juha Rantala表示,很高興能與EVG合作,這將加速該公司推出更新、更優化和更創新的光學材料技術,這些技術對實現客戶的關鍵性能指標有很大的幫助。該公司的奈米壓印高折射率材料和搭配的填充塗層,再加上EVG的NIL系統,為光學製造商提供了關鍵的晶圓級解決方案,這可以讓他們的最新產品能更快進行量產。

此合作夥伴關係在位於EVG總部奧地利St. Florian的NILPhotonics技術處理中心內展開。EVG的NILPhotonics技術處理中心為NIL供應鏈中的客戶和合作夥伴提供一個開放式的創新平台,其目的為縮短新創光學元件及其應用的開發週期和產品上市時間。因應該協議的一部分,Inkron為自己的研發機構購買了EVG 7200 NIL系統,以加速新光學材料的開發和驗證。EVG 7200系統利用EVG的創新SmartNIL技術和材料經驗,能夠大規模量產小至30nm的微米和奈米級結構,其特色還包含只需用到極小的脫膜力道同時能維持結構不至變形,快速的高功率曝光和平順的脫模。

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